2018年5月，中芯國際（SMIC）訂購了一套極紫外光刻（EUV）設(shè)備，該設(shè)備來自荷蘭芯片設(shè)備制造商ASML，價值1.2億美元。
長江存儲的首臺光刻機同樣來自ASML，為193nm浸潤式光刻機，售價7200萬美元，用于14 nm-20 nm工藝。
11月29日，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收，新華網(wǎng)發(fā)布新聞并受到各媒體轉(zhuǎn)載，備受業(yè)界關(guān)注，同時引發(fā)了討論。
近乎同期，ASML供應(yīng)商廠房發(fā)生火災(zāi)， 2019年初ASML光刻機出貨恐受影響。
光刻機伴隨著2018年，同時，貴、重要、技術(shù)難攻、ASML是圍繞著他的關(guān)鍵詞。作為貫穿2018年的關(guān)注熱點，多次引發(fā)討論。


光刻機原理
光刻機根據(jù)用途的不同，可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造。
按照光源和發(fā)展前后，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影響光刻機的工藝。光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。
接近或接觸式光刻通過無限靠近，復(fù)制掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，通過運動工件臺或鏡頭掃描實現(xiàn)任意圖形加工。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優(yōu)點，是集成電路主流光刻技術(shù)。
實際上，我們可以將投影式光刻想象為膠片攝影。膠片攝影是通過按下快門，光線通過鏡頭投射到膠卷上并曝光。之后通過“洗照片”，即將膠卷在顯影液中浸泡，得到圖像。
光刻機光刻的工作原理也是類似，如下圖所示，光源通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面，引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，再通過顯影技術(shù)溶解去除曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域的光刻膠（前者稱正性光刻膠，后者稱負性光刻膠），使掩膜版上的圖形被復(fù)制到光刻膠薄膜上，最后通過刻蝕技術(shù)將圖形轉(zhuǎn)移到基片上。

光刻機發(fā)展
據(jù)美國數(shù)據(jù)分析機構(gòu)TIN在2018年2月數(shù)據(jù)，2017年ASML在全球半導(dǎo)體光刻設(shè)備廠中以85%的市占率穩(wěn)居龍頭，在其后是日本廠商尼康（Nikon )的10.3%、佳能 ( Canon ) 的4.3%，ASML連續(xù)16年穩(wěn)居市場第一。
前文介紹了光刻機分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV）。按照發(fā)展軌跡，最早的光刻機光源即為汞燈產(chǎn)生的紫外光源（UV）。之后行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)采用準(zhǔn)分子激光的深紫外光源（DUV），將波長進一步縮小到ArF的193 nm。由于遇到了技術(shù)發(fā)展障礙，ArF加浸入技術(shù)成為主流。
浸入技術(shù)是指讓鏡頭和硅片之間的空間浸泡于液體之中。由于液體的折射率大于1，使得激光的實際波長會大幅度縮小。目前主流采用的純凈水的折射率為1.44，所以ArF加浸入技術(shù)實際等效的波長為193 nm/1.44=134 nm。從而實現(xiàn)更高的分辨率。由于157 nm波長的光線不能穿透純凈水，無法和浸入技術(shù)結(jié)合。因此，準(zhǔn)分子激光光源只發(fā)展到了ArF。

國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)進展

在光刻機領(lǐng)域，荷蘭ASML可謂遙遙領(lǐng)先。對于光刻技術(shù)，我國也非常重視。自20世紀(jì)90年代起，長春光機所開始專注于EUV/X射線成像技術(shù)研究，著重開展了EUV光源、超光滑拋光技術(shù)、EUV多層膜及相關(guān)EUV成像技術(shù)研究，形成了極紫外光學(xué)的應(yīng)用技術(shù)基礎(chǔ)。2017年，“極紫外（EUV）光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項目在中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所通過驗收。
而近期廣為傳播的中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制的“超分辨光刻裝備”則可應(yīng)用在小批量、小視場（幾平方毫米）、工藝層少且套刻精度低、低成品率、小基片尺寸（4英寸以下）且產(chǎn)率低（每小時幾片）的一些特殊納米器件加工。但是在看到其線寬分辨率優(yōu)勢的同時，同樣需要看到與主流商用的ArF浸沒式投影光刻機相比，其在視場、成品率、套刻精度及產(chǎn)率上的不同，工業(yè)之路仍有較長一段路要走。
我國上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)是中國國內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻機研制生產(chǎn)單位。根據(jù)其官網(wǎng)顯示，目前產(chǎn)品有600系列光刻機主要用于 IC前道制造；500系列光刻機主要用于IC后道先進封裝；300系列光刻機主要用于 LED、MEMS、Power Devices制造；200系列光刻機主要用于 TFT曝光。

從技術(shù)進展層面上來說，ASML新出的EUV光刻機可用于試產(chǎn)7 nm制程，SMEE已量產(chǎn)的光刻機中性能最好的是能用來加工90 nm芯片的SSA600/20光刻機。